众所周知，现在制作均是选用光刻工艺，而光刻工艺下，光刻胶是很重要的资料。
光刻胶是一种具有光敏化学作用的高分子聚合物资料，外观上呈现为胶状液体。涂在硅晶圆上，作为抗刻蚀层维护衬底外表。
当光刻机的光线照耀至涂了光刻胶的硅晶圆上时，光刻胶就会产生显着的改变，再经过后续的刻蚀等工序之后，电路图就会留在硅晶圆上了。
所以光刻胶在芯片制作中至关重要，一起光刻胶与芯片的工艺、光刻机的光线也是对应的。
现在从商场来看，光刻胶分为g线、i线、KrF、ArF、EUV这么5种，对应着不同的芯片工艺和光刻机的技能。
详细依照工艺来区分的话，g线nm以上工艺，KrF一般用于250nm-130nm工艺，ArF一般用于130nm-14nm，而EUV用于EUV光刻工艺，大多数都用在7nm以下工艺。
从全球商场来看，光刻胶主要被日本厂商独占，特别是EUV光刻胶，现在全球仅日本厂商可以出产。
2021年商场数据为：在g线/i线、KrF、ArF、EUV光刻胶商场中，日本企业的市占率分别为61%、80%、93%，100%，整体比例超越75%。
而之前有新闻媒体报道称，韩国厂商被日本卡脖子后，发愤图强，也可以出产EUV光刻胶了，但实践在商场上，还没有详细见到。
而我国在光刻胶上面，高度依靠进口，依照组织给出的数据，现在在EUV光刻胶上，我国自给率为0，不过现在国内也出产不了7nm及以下的芯片，没有EUV光刻机，也用不上EUV光刻胶。
而在ArF这种用于130nm-14nm芯片光刻胶上，国产的自给率约为1%，99%需求进口。不过近来有新闻媒体报道称，国产的ArF光刻胶现已有打破了，南大光电现已开发了多款ArF光刻胶鄙人游客户处验证，制程掩盖28nm~90nm，这算是巨大的惊喜了。
而用于250nm-130nm工艺的KrF光刻胶，国产自给率约为5%，也就是说还有95%要进口，不过这一块也不需太过于忧虑，国产缺的是产能以及商场占有率，不是技能，国外卡不住脖子。
在比较落后的g线、i线光刻胶上面，国产率超越20%了，究竟这种技能门槛不高，之所以没到达100%国产，原因更多的仍是产能影响，不是技能。
可见开展我国芯，光刻胶同样是需求打破的，EUV暂时不提，国内暂时也用不上。可是ArF光刻胶，它是用于14nm-130nm的光刻胶，是当时最重要的光刻胶之一了，也是国内最需求的光刻胶，咱们可不能被国外卡住了脖子，你觉得呢？