中商情报网讯：光刻胶又称光致抗蚀剂，是指经过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照耀或辐射，其溶解度产生显着的改变的耐蚀剂刻薄膜材料，是半导体制作中运用的中心电子材料之一。伴随着晶圆制作规划继续提高，我国有望接受半导体光刻胶工业链转移。
近年来，光刻胶职业遭到各级政府的分外的注重和国家工业方针的要点支撑。国家连续出台了多项方针支撑光刻胶职业开展，为光刻胶职业的开展供给了杰出的环境。光刻胶职业详细方针如下：
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