在芯片制造的过程中，需要用光刻胶材料对芯片线路进行显影，把光刻胶涂抹在晶圆表面还能保护衬底基座。
可就是这样一个重要的光刻胶材料，核心技术，市场占有率几乎都被日企垄断。好消息是国产厂商南大光电实现了14nm光刻胶的破冰，成功打破垄断。
芯片的诞生会经历设计、制造、封测三大流程，其中制造的难度是最大的，所花费的成本也是最多的。
台积电，三星等芯片制造商每年都需要拿出三四百亿美元的资本开支，用于研发技术，设备采购和工厂建设等等。
前期的投入还未必能得到回报，别看台积电每年的营收都创下新高，可毕竟是头部玩家。
而且台积电用了三十多年的时间才有如今的地位，掌握世界领先芯片制造实力的同时，也离不开半导体产业链的支持，来自日本的光刻胶材料占到了台积电生产线的主体地位，假如没有光刻胶，台积电即便采购了EUV光刻机，也无法将芯片造出来。
光刻胶是一种光敏化学材料，可以将光刻机曝光的芯片图案显影在晶圆表面。虽然光刻胶的成本远远比不上光刻机，却能起到四两拨千斤的作用。
连台积电也需要找日本采购光刻胶，日企的光刻胶实力有多强？必须了解到的是，全球排名前五的光刻胶厂商垄断了87%的市场占有率，其中有四家厂商来自日本。
分别是JSR、东京应化、信越化学、富士电子 材料。这些日企在高分辨率的KrF，ArF光刻胶领域掌握主导的市场占有率以及核心技术，而最高端的EUV光刻胶也只有日企的品质最好。
台积电，三星生产7nm，5nm等高端芯片，均离不开日本EUV光刻胶的支持。在这方面，JSR的实力是最强的，2011年JSR突破EUV光刻胶之后，就从始至终保持领先地位。
全球光刻胶市场被日企巨头主导，而中国有庞大的芯片消费市场，目前正在向制造业提升芯片生产能力，所以光刻胶的问题是需要得到解决的。
国产光刻胶虽然距离顶级的水准还有进步空间，但是已经在逐步增长了，从产量到技术均呈现上升状态。比如2016年中国光刻胶行业产量为7.27万吨，到了2017年提升至7.56万吨。
技术方面，南大光电14nm光刻胶打破垄断。由南大光电自主研发的ArF光刻胶正在向多家下游客户做验证。另外南大光电也透露ArF所需的关键配套材料均为自主研发。
ArF光刻胶能应用在14nm芯片制程，随着南大光电稳定提升产量，得到客户验证，相信在国产光刻胶行业内会得到更多的客户支持。
有美媒对此感慨：中国学者不睡觉吗？或许在美媒看来，中国芯片频频传来好消息有些难以置信了。
实际上对这种的行业现状，微软创始人比尔盖茨早有表态。在美国不允许芯片出货的时候，比尔盖茨就表示这会让美国失去很多高薪工作，还会让中国芯片走向自给自足。
情况正如比尔盖茨所言，美国硅谷科技公司开启了大规模裁员行动，有的公司裁员上万人，大批的人员失业。而中国芯片押注技术可控的RISC-V架构发展，从设计层面把控未来。制造方面也有南大光电等国产厂商丰富光刻胶材料来应用，为中国芯片的进步添砖加瓦。
光刻胶材料决定了芯片制造能否顺利推进，这是中国芯片的必经之路。尽管光刻胶行业只有几十亿美元的规模，可同样是竞争非常激烈的一条赛道。
日本起步较早，所以有时间方面的优势，探索了许多可行的出路后形成知识专利体系。在这个的技术壁垒下，想要打破就必须付出更多的努力。
那么国产光刻胶破冰有何意义呢？很明显的一点就是让产业话语权能够掌握在自己手中，避免在关键的技术领域受到外部因素的干扰。
中国工程院院士倪光南说过，核心技术是买不来，换不来的。也就是说，在光刻胶这类核心技术产品中，需要投入自主的研发力量，加大创新力度，为国产芯片的将来蹚出一条宽敞的路。
不只是南大光电，还有上海新阳、晶瑞股份、徐州博康等等国产厂商都在布局光刻胶赛道，形成自主研发的科研团队，在建设国产芯片产业链事业上贡献自己的力量。
中国芯再传好消息，14nm光刻胶打破垄断，南大光电的ArF光刻胶正在向下游客户做验证。作为芯片制造不可或缺的一环，光刻胶的重要性不言而喻，期待国产厂商能积累更多的科研成果。